CVD工藝氣體傳輸控制柜
薄膜沉積、光刻、刻蝕三大工藝是最關鍵的環節，CVD工藝氣體傳輸控制柜是化學氣相沉積（CVD-chemical vapor deposition）工藝中不可或缺的一部分，主要用于精確控制特種氣體的傳輸和供應，確保CVD過程中的氣體純度、穩定性和安全性。
咨詢專家
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產品特點
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產品參數
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質量管理
產品特點
高精度流量控制
通過精確的閥門系統和流量控制器，實現對特種氣體的精確傳輸和控制，確保氣體流量、壓力等參數的穩定性
安全穩定性
氣柜配有門互鎖開關、壓力安全開關、單向閥、火焰報警器等安全部件保證氣柜安全。同時，設備采用防爆、防腐等設計，提高了設備的安全性能
高氣密性
產品采用IGS和VCR接口形式實現半導體設備的高氣密性
高潔凈度
采用高精度過濾器能夠去除3nm以上的顆粒雜質
安全認證
通過SEMI S6測試安全認證
產品參數
| 外漏測試漏率 | ≤1.0X10-11/mbar·L/s |
| 內漏測試漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s |
| 保壓測試50psi | 氮氣保壓測試, 保壓12h,壓降 ≤1% |
| 氦爆測試漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s;（可選） |
| 顆粒測試 | (5 particle @ >0.1um) |
| 水氧測試 | 水含量≤10PPB，氧含量≤10PPB；（可選） |
質量管理
富創質量管理秉承"好的質量是設計、制造出來的"為原則,關注客戶端到端的質量服務,從研發、設計、過程全生命周期質量管理關注各環節中入口質量、過程質量、出口質量,以保證整體質量可控,最終構建成以以預防為主的質量文化,助力客戶產品更具競爭力。
