ALD工藝氣體傳輸控制柜
原子層沉積（Atomic Layer Deposition，簡稱ALD）是一種精密的薄膜沉積技術，能夠在納米尺度下實現對材料表面進行單原子層級別的精確控制和生長。ALD工藝氣體傳輸控制柜是專門用于ALD工藝過程中，確保氣體穩定、精確和安全傳輸的設備。該控制柜通過高精度控制，保證氣體流量、壓力和溫度的準確調節，以滿足ALD工藝對氣體供應的嚴格要求。
咨詢專家
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產品特點
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產品參數
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質量管理
產品特點
高精度流量控制
采用高精度氣體質量流量控制器，能夠精確控制反應氣體進入反應腔，從而確保工藝穩定性
采購快速氣動閥，實現氣體快速切換，從而實現工藝穩定
安全穩定性
氣柜配有門互鎖開關、壓力安全開關、單向閥等安全部件保證氣柜安全
設備采用防爆、防腐等設計，提高了設備的安全性能
高氣密性
產品采用IGS和VCR接口形式
實現半導體設備的高氣密性
高潔凈度
采用高精度過濾器
去除3nm以上的顆粒雜質
安全認證
通過SEMI S6測試安全認證
產品參數
| 外漏測試漏率 | ≤1.0X10-11/mbar·L/s |
| 內漏測試漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s |
| 保壓測試50psi | 氮氣保壓測試，保壓12h，壓降 ≤1% |
| 氦爆測試漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s;（可選） |
| 顆粒測試 | (5 particle @ >0.1um) |
| 水氧測試 | 水含量≤10PPB，氧含量≤10PPB；（可選） |
質量管理
富創質量管理秉承"好的質量是設計、制造出來的"為原則,關注客戶端到端的質量服務,從研發、設計、過程全生命周期質量管理關注各環節中入口質量、過程質量、出口質量,以保證整體質量可控,最終構建成以以預防為主的質量文化,助力客戶產品更具競爭力。
